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Issue
Ann. Phys. Fr.
Volume 19, Number C1, octobre 1994
Page(s) C1-73 - C1-85
DOI https://doi.org/10.1051/anphys/1994022
Published online 01 June 2004
Ann. Phys. Fr., Vol. 19, N°C1 octobre 1994, pp. C1-73–C1-85
DOI: 10.1051/anphys/1994022

Applications aux microtechniques de la photolithographie profonde par UV et par rayonnement synchrotron

S. Ballandras et D. Hauden

Laboratoire de Physique et Métrologie des Oscillateurs du CNRS, Associé à l'Université de Franche-Comté-Besançon, 32 avenue de l'Observatoire, 25044 Besançon cedex, France





© EDP Sciences 1994
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