Réacteur VUV à décharge interne pour le dépôt en couches minces de silicium amorphe, d'oxyde et de nitrure de siliciumC. Fuchs, R. Henck and E. FogarassyAnn. Phys. Fr., 17 (1992) 59-60DOI: https://doi.org/10.1051/anphys/1992011
