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Ann. Phys. Fr.
Volume 22, février-avril 1997
UVX 1996 - 3e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X - Applications et développements récents
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| Page(s) | C1-225 - C1-226 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/anphys/1997043 | |
| Published online | 15 February 1997 | |
Ann. Phys. Fr., Vol. 22, C1 février-avril 1997, pp. C1-225-C1-226
Simulation thermique de la fusion et de la recristallisation par lasers à excimères du silicium amorphe pour les applications transistors en couches minces
Laboratoire PHASE-CNRS, BP. 20, 67037 Strasbourg cedex, France
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© EDP Sciences, 1997
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