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Issue
Ann. Phys. Fr.
Volume 17, Number C1, juin 1992
Page(s) 59 - 60
DOI https://doi.org/10.1051/anphys/1992011
Published online 01 June 2004
Ann. Phys. Fr., Vol. 17, N°C1 juin 1992, pp. 59-60
DOI: 10.1051/anphys/1992011

Réacteur VUV à décharge interne pour le dépôt en couches minces de silicium amorphe, d'oxyde et de nitrure de silicium

C. Fuchs, R. Henck and E. Fogarassy

Centre de Recherches Nucléaires (CRN), Laboratoire PHASE (UPR du CNRS n°292), BP. 20, 67037 Strasbourg Cedex 2, France





© EDP Sciences 1992
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