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Ann. Phys. Fr.
Volume 19, octobre 1994
UVX 1994 - 2e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X - Applications et développements récents
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| Page(s) | C1-65 - C1-72 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/anphys/1994021 | |
| Published online | 01 June 2004 | |
Ann. Phys. Fr., Vol. 19, C1 octobre 1994, pp. C1-65-C1-72
La lithographie par rayons X à très haute résolution - ses limites ultimes
Laboratoire de Microstructures et de Microélectronique, L2M/CNRS, 196 avenue H. Ravera, BP. 107, 92225 Bagneux cedex, France
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© EDP Sciences, 1994
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